Pengenalan sistem penghasil air ultra-murni 15 T/H EDI

Spesialisasi untuk aplikasi pembersihan semikonduktor dan elektronik · Memenuhi standar air American Electronic Grade 1 (ASTM D5127 E-1.1 / SEMI F63 Grade 1)

Keluaran Air: 15 ton per jam (15,000 P/T)

Resisvitas Air: 18.25 MOmega ·Cm (25°C)

Katalog

Ringkasan eksekutif

Peralatan ini adalah sistem pembangkit air ultrapure 15 T/H dengan kapasitas output terukur 15 ton per jam (15,000 L/h). Resisvitas listrik air yang diproduksi secara konsisten mencapai 18.25 MOmega ·Cm (at 25°C), menghampiri batas militer untuk air murni. Sistem menggunakan proses perawatan komprehensif termasuk "pra-perawatan tahap ganda RO EDI poles campuran Tempat Tidur Dua panjang gelombang UV UF ultrafiltrasi distribusi sirkulasi," Memastikan bahwa output air sepenuhnya memenuhi standar air American Electronic Grade 1 (ASTM D5127 E-1.1 / SEMI F63 Grade 1). Ini dirancang khusus untuk aplikasi yang membutuhkan kualitas air yang sangat tinggi, seperti proses pembersihan semikonduktor dan elektronik.

Pengenalan sistem penghasil air ultra-murni 15 T/H EDI

I. Ikhtisar peralatan

Sistem generasi air ultrapure 15 T/H adalah solusi persiapan air kemurnian tinggi yang dirancang untuk sektor manufaktur semikonduktor elektronik, dengan kapasitas keluaran standar 15 ton per jam (setara dengan 15,000 liter per jam). Sistem ini menggunakan proses desalinasi inti yang menggabungkan "electrodeionisasi berkelanjutan (EDI) pemolesan campuran Bed" teknologi, dilengkapi dengan perawatan pra tahap, osmosis terbalik dua tahap (RO), sterilisasi ultraviolet, dan ultrafiltrasi untuk pemurnian akhir. Produk yang menghasilkan air secara konsisten mencapai resisvitas 18.25 MOmega ·Cm (at 25°C), menghampiri batas militer untuk air kemurnian tinggi, sehingga memenuhi persyaratan proses ketat untuk air yang sangat digunakan dalam aplikasi pembersihan semikonduktor elektronik.

Peralatan ini menghadirkan modular, desain terintegrasi otomatis sepenuhnya yang secara progresif memurnikan air mentah melalui beberapa tahap, dilengkapi dengan sistem distribusi sirkulasi putaran tertutup. Pendekatan ini memastikan air produk akhir berkualitas tinggi sementara secara bersamaan menjamin stabilitas operasional, Kemudahan pemeliharaan dan operasi, dan keberlanjutan lingkungan (dengan proses regenerasi bebas alkali dan asam penuh). Kapasitas produksi air terukur, parameter kualitas air, dan konfigurasi sistem semuanya dioptimalkan untuk memenuhi persyaratan pasokan air yang berkelanjutan, stabil, dan ultra-bersih dari industri elektronik dan semikonduktor; Dengan demikian, ia mewakili solusi persiapan air ultrapure yang ideal untuk proses manufaktur yang penting seperti pembersihan wafer, fotolitografi, dan etsa basah.

II. Persyaratan proses air sangat murni untuk industri semikonduktor dan elektronik

Dalam proses manufaktur semikonduktor elektronik—Seperti untuk sirkuit terpadu, tampilan panel datar, dan perangkat fotovoltaik—Wafer silikon, substrat, dan berbagai komponen elektronik mengalami banyak pembersihan frekuensi tinggi, pencucian, dan operasi etsa. Sebagai salah satu media proses yang paling ekstensif digunakan, tingkat kebersihan air ultrapure secara langsung menentukan hasil produk dan keandalan perangkat. Bahkan dengan adanya sejumlah jejak kotoran di dalam air dapat menyebabkan cacat, kontaminasi, atau kegagalan listrik pada permukaan perangkat nanobase.

Air sangat murni digunakan untuk pembersihan semikonduktor dan elektronik harus memenuhi standar yang sangat tinggi di seluruh dimensi berikut:

· Resistif: harus melebihi 18.2 MΩ · cm; Ini adalah indikator paling penting untuk mengukur konsentrasi ion terlarut dalam air. A resistif 18.25 MΩ · cm dekat dengan resisvitas Maksimum militer untuk air murni (sekitar 18.2-18.25 MΩ · cm pada 25 °C), menunjukkan bahwa hampir tidak ada ion gratis yang hadir dalam solusi.

· Kontrol partikel: partikel dengan ukuran ≥ 0.05 μm harus dikontrol secara ketat; Adhesi partikel pada permukaan perangkat dapat menyebabkan cacat pola, sirkuit pendek, atau pemutus kawat.

· Ion logam: ion logam seperti natrium, kalium, besi, tembaga, dan seng harus dipertahankan pada konsentrasi di bawah 1 ppt (suku cadang per triliun); bahkan melacak jumlah kontaminasi logam dapat mengubah sifat operator semikonduktor, menyebabkan kebocoran arus dan kegagalan perangkat.

· TOC (Total karbon organik): residu organik dapat karbonisasi atau membentuk film selama pemrosesan suhu tinggi, mempengaruhi kualitas lapisan oksida; Untuk bahan kelas elektronik, level TOC biasanya diperlukan hingga ≤ 20 PDB.

· Silikon terlarut (sio%): depilasi kotoran berbasis silikon pada permukaan perangkat dapat mempengaruhi penyebar masuknya; Persyaratan ciri khas adalah ≤ 0.5-1 ppb.

· Bakteri

· Elemen khusus-seperti boron dan klorin-menghadapi bahaya signifikan bagi perangkat tertentu (misalnya, perangkat memori atau sel fotovoltaik) dan harus dihilangkan secara khusus.

III. Pernyataan kepatuhan

Air yang diproduksi oleh peralatan ini memenuhi persyaratan ketat dari standar Air ultra ringan tingkat elektronik yang diakui secara internasional, mematuhi standar air tingkat elektronik AS ASTM D5127 E-1.1 dan SEMI F63 kelas 1 – Khususnya 18.2 MOmega ·Cm Air ultra untuk kelas elektronik. Di bawah ini adalah perbandingan dari parameter kualitas air kunci:

Data di atas menunjukkan bahwa air yang diproduksi oleh peralatan ini memenuhi atau melebihi persyaratan standar air kelas elektronik AS, membuatnya cocok untuk digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor elektronik kelas atas dengan yakin.

IV. Prinsip proses sistem dan Flowchart

Sistem generasi air ultrapure 15 T/H 2/jam memakai proses pemurnian progresif multi-tahap untuk secara berurutan menghilangkan sulfat, koloid, ion, senyawa organik, et, dan partikulat, menghasilkan Air ultra kelas elektronik. Aliran proses yang umum adalah sebagai berikut:

Air baku → Filtrasi Multi-media → Adsorpsi karbon teraktifkan → Sistem pencegahan dosis skala (atau Filter pelembut) → RO primer → RO sekunder → EDI (elektrodoionisasi) → Bed Mix pemoles → UV 185 nm (pengurangan TOC) → UV 254 nm (desinfeksi) → UF (ultrafiltrasi) → Tangki segel Nitrogen air sangat murni → Catu air sirkulasi penggerak frekuensi variabel (VFD) → Terminal penyaringan mikropori → Titik penggunaan air

Deskripsi setiap unit proses:

· Tahap pra-perawatan (filtrasi multi-media, perawatan karbon aktif, Pelembut air): menghilangkan sudip padat, sisa klorin, bahan organik, dan kekerasan air dari air mentah untuk melindungi elemen membran berikutnya.

· RO tahap ganda: Sebagai unit desalinasi utama, dapat menghilangkan lebih dari 99% garam terlarut, koloid, dan kebanyakan zat organik, menyediakan air isap yang memenuhi syarat untuk EDI (biasanya dengan konduktivitas ≤ 20 μS/cm).

· EDI (elektrodoionisasi): Di bawah pengaruh medan listrik DC, ion sisa terus dihapus menggunakan membran pertukaran ion atau resin, menghilangkan kebutuhan untuk regenerasi berbasis asam atau alkali-menjadikannya proses ramah lingkungan.

· Pengobatan tempat tidur campuran yang dipelitur: melakukan pemurnian akhir yang mendalam dari efek EDI, lebih jauh membawa resisvitas lebih dekat ke batas militer 18.25 MΩ · cm.

· UV dengan panjang gelombang ganda: 185 nm sinar ultraviolet mengoksidasi dan mengurai senyawa organik macromolekul ke dalam coqueensdan H₂O, dengan demikian mengurangi TOC; Sinar ultraviolet 254 nm menghancurkan DNA Rb, dan mencapai sterilisasi.

· Distribusi sirkulasi: tangki air ultrapure, dikombinasikan dengan sistem suplai air sirkulasi frekuensi variabel dan filtrasi terminal POU, membantu mengurangi pertumbuhan bakteri dan mencegah penurunan resisvitas, memastikan kualitas air yang stabil di semua titik penggunaan.

V. Konfigurasi Utama dan Spesifikasi Teknis

Konfigurasi kunci dan spesifikasi teknis dari peralatan ini ditunjukkan dalam tabel di bawah ini:

VI. Kinerja

· Kualitas air yang sangat stabil: resisvitas tetap secara konsisten pada 18.25 MΩ · cm, dengan semua parameter mematuhi US elektronik Grade 1 standar air-ideal untuk proses manufaktur semikonduktor kelas atas.

· Ramah lingkungan dan bebas asam/alkali: proses desalinasi inti menggunakan EDI berkelanjutan (elektrodoionisasi) teknologi regenerasi, menggantikan metode regenerasi asam/alkali pilihan tradisional; ini menghilangkan pelepasan air kimia, sehingga memenuhi persyaratan pabrik hijau.

· Operasi terotomatisasi sepenuhnya: kontrol PLC terpusat memungkinkan pemantauan waktu nyata dari kualitas air penting dan parameter operasional, bersama dengan diagnosis dan fungsionalitas alarm mandiri, sehingga mengurangi intervensi manual dan beban kerja pemeliharaan operasional.

· Tingkat pemulihan air dan efisiensi energi tinggi: sistem RO dua tahap menghadirkan desain distribusi sirkulasi yang dioptimalkan, dan mencapai tingkat pemulihan air sistem sebesar ≥ 75%, secara efektif mengurangi konsumsi air dan biaya operasi.

· Modular dan skalabel: desain modul standar memfasilitasi instalasi, ekspansi, dan pemeliharaan, sehingga cocok untuk lini produksi dengan berbagai ukuran.

· Jaminan kebersihan: komponen kontak air ultrapure dibuat dari bahan kelas bersih dengan ketahanan rendah dan properti anti-fouling, secara efektif mencegah kontaminasi sekunder pada sumber.

VII. Skenario Aplikasi dan Nilai Pemilihan

Peralatan ini sangat luasCocok untuk Aplikasi yang membutuhkan standar kualitas air yang sangat ketat dalam elektronik, semikonduktor, dan sektor manufaktur kelas atas terkait, termasuk:

· Air untuk sirkuit terintegrasi (IC) Pembersihan wafer, fotolitografi, dan proses etsa basah;

· Air Pembersih substrat kaca untuk layar panel datar (LCD/OLED);

· Air untuk tekstil, pembersihan, dan pembersihan pra-difusi dari wafer silikon fotovoltaik;

· Air rendam kemurnian tinggi untuk komponen elektronik dan perangkat presisi;

· Permintaan air yang sangat murni di bidang seperti laboratorium, farmasi, dan aplikasi pengobatan permukaan yang canggih.

Dalam hal nilai pemilihan sistem, kapasitas produksi 15 T/H sangat cocok untuk memenuhi permintaan air terus-menerus garis manufaktur semikonduktor dan elektronik skala menengah; Rute proses, berpusat pada sistem kasur campuran pemolesan EDI, memastikan kualitas air luar biasa 18.25 MOmega ·Cm sementara menghilangkan risiko lingkungan dan operasional yang terkait dengan asam–Regenerasi alkali; Sistem distribusi sirkulasi yang stabil menjamin kualitas air yang konsisten pada semua titik penggunaan, dengan demikian membantu meningkatkan hasil produk dan mengurangi biaya per unit produksi air – Menjadikannya solusi ideal yang menyeimbangkan teknologi canggih dengan semangat komersial.

VIII. Aspek-aspek Kunci dalam Operasional dan Pemeliharaan

Untuk memastikan pengoperasian peralatan yang stabil jangka panjang dan kualitas air yang diproduksi, direkomendasikan untuk mematuhi peraturan operasional dan pemeliharaan berikut:

· Pemantauan rutin: melakukan pemeriksaan harian terhadap resisvitas online, TOC, tingkat aliran, dan tekanan; Mempertahankan kualitas air buku catatan; Dan segera menyelidiki batu bara yang terdeteksi.

· Pemeliharaan pra-perawatan: mengganti filter multi-media, karbon aktif, dan resin pelembut secara berkala; Memantau residu klorin dan kekerasan air influen untuk mencegah oksidasi atau pengaturan skala dari elemen membran.

· Pemeliharaan Sistem membran: Secara berkala memantau diferensial tekanan operasi antara unit RO dan EDI serta konduktivitas air produk; Melakukan pembersihan kimia jika perlu untuk memperpanjang masa pakai layanan dari elemen membran.

· Manajemen sterilisasi: Secara berkala Mengkalibrasi intensitas lampu UV dan mengganti lampu sesuai jadwal; Ultrafiltrasi dan filter terminal harus diganti berdasarkan diferensial tekanan atau interval berkala untuk mencegah pertumbuhan implan.

· Jaminan sirkulasi: menjaga sirkulasi berkelanjutan dalam sistem distribusi untuk mencegah air membara dari menyebabkan penurunan resisvitas atau pertumbuhan bakteri.

· Merekam dan pelatihan: meningkatkan dokumentasi operasional dan pemeliharaan; Menyediakan pelatihan profesional untuk operator untuk memastikan prosedur operasi standar dan kemampuan respons darurat yang efektif.

Melalui praktik operasi dan pemeliharaan yang disebutkan, sistem air ultrapure 15 Tedi dapat secara konsisten dan andal menghasilkan Air ultra tingkat elektronik dengan resisvitas 18.25 MOmega ·Cm, menyediakan jaminan kualitas air yang andal untuk proses pembersihan semikonduktor dan elektronik.